目的 解析合成醋酸西曲瑞克的两种难解析杂质氨基酸序列及修饰，探讨氨甲酰基中性丢失效应在质谱氨基酸序列分析中的影响。方法 在合成工艺分析的基础上，利用静电场轨道阱质谱碰撞诱导解离，结合高能碰撞解离多级碎裂，解析无法合成纯品并且单一高能碰撞解离无法解析的两Tezacaftor分子式种杂质。结果 精氨酸侧链无修饰的杂质形成氢键，避免CMOS Microscope Cameras了氨甲酰基3-MA研究购买中性丢失。氨甲酰基中性丢失效应和空间位阻效应导致杂质3理论碎片与实测碎片不匹配。在杂质2的结构中，磺酸基与瓜氨酸羰基氧形成的氢键避免氨甲酰基中性丢失，但由于磺酸基位阻较小，发生N-S键断裂。结论 氨甲酰基中性丢失效应可能导致单一高能碰撞解离碎片与理论碎片不匹配，空间位阻效应、形成氢键也可能影响氨甲酰基中性丢失，因此当数据解析引擎显示不匹配时，还应深入分析推测氨基酸侧链的低能键，才能实现充分的杂质质控。